S20 高真空离子溅射仪

可喷镀金属：Au、Pt、Pd、Ir、W等单金属和任意组份的 Pt-Au、Pt-Pd 合金等

1双靶磁控溅射阴极：Pt-Au叠层配方 / 镀W工艺

2 无油高真空泵组：清洁，适用于微纳半导体场景

3 双靶倾斜设计+旋转样品台：对3D结构样品友好

产品介绍

Product Introduction

S20 主要定位：20万倍超高分辨FESEM场景

S20是一款基于磁控溅射原理的高真空双靶离子溅射仪，采用内置涡轮分子泵与无油隔膜泵联用，可提供洁净的高真空环境（<5×10⁻² Pa）。结合倾斜双靶与旋转样品台的协同设计，可在样品表面形成均匀、稳定的导电镀层，广泛适用于超高分辨场发射电镜样品、特别是3D粉末类和易损伤类样品的导电镀层制备。可溅射金属：Au、Pt、Pd、Ir、W和任意组份的 Pt-Au、Pt-Pd 叠层合金等。

基本参数

Product Specification

技术规格	参数
适用场景	超高分辨场发射扫描电镜（FE-SEM）样品表面导电镀层制备
真空泵组	涡轮分子泵+无油隔膜泵
抽速	分子泵：≥9 L/s；隔膜泵：≥0.7 m³/h
极限真空	< 5×10^-2Pa
工作气压	0.5-1.5 Pa
气体控制	MFC气体质量流量控制器（≥5 SCCM N₂）
泵组启动时间	<5 min
溅射计时	0-300 s
真空计	复合高真空计（测量范围：1×10^-3Pa-标准大气压）
腔室尺寸	石英玻璃腔体 (外尺寸 Ø150 mm × H 120 mm)
旋转样品台	直径：Ø80 mm；转速：60 RPM；工作距离：55-70 mm（连续可调）
溅射靶材	标配2片靶材（Ø30 mm，厚0.2–1 mm），支持单靶溅射与双靶顺序溅射
溅射电源	恒功率直流磁控溅射电源，输出： 1-20 W； 0-100 mA；0-800 V
进气口	Ø6 mm气路接口
操作方式	触摸屏控制，控制系统提供互锁保护功能
重量	~17 kg
尺寸	250 mm宽×360 mm深×374 mm高
输入电源	100-240 V AC，50/60 Hz ，三脚接地插头
功耗	<160 W
质保	一年
备注	以上所列技术规格与参数更新恕不另行通知，如有疑问请联系我们