CN
J20 双靶离子溅射仪
可喷镀金属:Au、Pt、Pd、Ir等单金属和任意组份的 Pt-Au、Pt-Pd 合金等
1双靶磁控溅射阴极:Pt-Au叠层配方,抑制荷电更稳定
2 倾斜靶+旋转样品台设计:对3D结构样品友好
3 样品场景通用性强
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产品介绍
Product Introduction
场发射扫描电镜(SEM)的分辨率远高于钨灯丝 SEM,放大倍率可达 10 万倍及以上,因此对离子溅射镀膜的颗粒度提出了更高要求 —— 不仅需要镀膜颗粒足够细腻,避免掩盖样品本征形貌,还需具备优异的荷电抑制能力与衬度提升效果。
 
场发射 SEM 常规制样多采用单质 Pt 溅射镀膜,但 Pt 的导电性弱于 Au,且空气环境下 Pt 溅射易受湿度影响,镀膜电阻重复性差,难以实现稳定的荷电抑制。
 
为此,我们设计了双靶离子溅射仪,并开发了 Pt-Au 叠层镀膜工艺:先溅射沉积一层颗粒细腻、结构致密的 Pt 膜,对样品本征形貌形成保护;再沉积一层 Au 膜提升样品导电性与信号强度。该工艺可同时实现稳定的荷电抑制与形貌衬度提升,显著优化 SEM 成像质量。
基本参数
Product Specification

技术规格

参数

适用场景

 高分辨场发射扫描电镜(FE-SEM)样品表面导电镀层制备

真空泵

 高性能旋片泵

抽速

  ≥4 m3/h

极限真空

  <1 Pa

设置气压

  4-10 Pa

抽真空时间

  <2 min

溅射计时

  0-300 s

真空计

  皮拉尼真空计

腔体(标配)

 石英玻璃腔体 (外尺寸 Ø150 mm × H 120 mm)

旋转样品台

 直径:Ø80 mm;转速:60 RPM;工作距离:55-70 mm(连续可调)

溅射靶材

 标配2片靶材(Ø30 mm,厚0.2–1 mm),支持单靶溅射与双靶顺序溅射

溅射电源

  恒功率直流磁控溅射电源,输出: 1-20 W; 0-100 mA;0-800 V

操作方式

  触摸屏控制,控制系统提供互锁保护功能

主机重量

  ~15 kg

主机尺寸

  250 mm宽×360 mm深×374 mm高

输入电源

  100-240 V AC  ,50/60 Hz ,三脚接地插头

功耗

  <500 W

质保

  一年

备注

  以上所列技术规格与参数更新恕不另行通知,如有疑问请联系我们

应用案例
Application cases
普通样品场景
粉末、隔膜类样品场景
易损伤样品场景
花粉
蝴蝶翅膀
芯片
普通样品场景 (平面样品,类比平路):J20(SUV)基本等同于常规的单靶离子溅射仪(轿车), 甚至单靶高真空离子溅射仪效果
锂电前驱体粉末-喷镀Pt
锂电前驱体粉末-喷镀Pt-Au叠层合金
锂电前驱体粉末-喷镀Au

同样的喷镀条件,喷Au荷电消除效果显著,但可清晰看到Au颗粒,Pt荷电未消除,Pt-Au叠层样品既没有荷电也看不清金属颗粒。


3D样品场景(粉末、多孔、纤维等,类比山路): J20倾角双阴极+旋转偏转+叠层工艺,实现全方位多角度大面积沉积,其荷电效果和图像效果优于单靶喷Pt效果
聚乙烯薄膜-未喷镀
聚乙烯薄膜-喷镀Pt-Au叠层合金
聚乙烯薄膜-喷镀Pt-Au叠层合金
没喷镀之前5K倍成像已出现纳米线黏连变形的现象,分两次共溅射铂40秒加固结构,然后加铂5秒+22秒金 ,期间保持样品台旋转(20RPM)加倾斜±30度连续改变,30K倍可清晰成像。

易损伤样品场景:在处理脆弱敏感材料的时候,可以先喷Pt对样品的表面形成保护,然后喷Au去提升样品的漏电能力和信号量,结合样品的旋转偏转增加金膜覆盖的均匀程度,最后得到形貌更真实且清晰的图像。