DSC3000 Load-Lock磁控溅射镀膜机
适用于4-6英寸金属薄膜电极的制备
1交换舱设计,不破真空更高效
2 自动Recipe控制,可远程操作
3 在线等离子体清洗,提高附着力
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产品介绍
Product Introduction
采用一线品牌无油干泵和分子泵组产生一个洁净的10-3 Pa的真空压 强,通常抽真空时间小于30分钟。

采用高品质恒功率磁控溅射电源,确保恒定镀膜沉积速率。并配备自动旋转升降样品台,可加偏压和等离子体源用于基片的清 洗、活化。特别适用于4-8英寸金属薄膜电极的制备,可实现好的 薄膜厚度、性能均匀性以及优秀的薄膜附着力。
基本参数
Product Specification

技术规格

参数

主要用途

  金属薄膜电极

真空泵组

  标配干泵+2台分子泵组

泵组抽速

  >7m3/h 干泵+250 L/S 分子泵

极限真空

  <1.0E-4Pa

工作气压

  典型值:0.3-1 Pa

抽空时间

  <30Min (<1.0E-3 Pa,洁净腔体)

真空测量

  测量范围大气压到1.0E-8Torr,进口品牌复合真空计

气体控制

  两路 /三路MFC气体质量流量控制器(50或100 SCCM Ar/N2)

腔室尺寸

  Load Lock腔体Ø 300 *180 mm 工艺腔体Ø 300 *180 mm

闸板阀

  AdvanTorr

磁控靶源

  靶材尺寸 Ø 76.2*0.1-5 mm /2只

  选配一:靶材尺寸 Ø 50.8*0.1-5 mm /3只

  选配二:靶材尺寸 Ø 203.2mm/1只

  可实现单靶溅射/双、三靶共溅射/交替溅射

  带独立挡板,可溅射贵金属Au/Pt等,

  或金属Al、Cr、Ag、Ti、Cu、Ni等金属(通Ar气)

溅射电源

  恒功率磁控DC溅射电源 Max. 500W (可选国产或进口品牌ADL)

  偏压DC溅射电源 0-400V电源(选配)

样品台

  8英寸样品台。系统采用多轴伺服电机控制系统+磁流体密封+波纹管模组,可以实现样品台自动上下升降(可调范围不低于40mm),以及样品台的旋转(速度 0-60 RPM可调)

等离子清洗

  可选配RF射频等离子清洗源(75W)

工控模式

  提供客户端工艺菜单编辑软件。可以实现工艺菜单灵活编辑(可以在工 艺编辑软件进行模块化的工艺菜单编辑)+工艺菜单自动控制执行模式(载入工艺菜单,支持实现无人值守或远程网络控制镀膜)

操作方式

  触摸屏控制/电脑远程网络控制

重量尺寸

  ~300 Kg / 800 mm宽*1500 mm深*1500 mm高

输入电源/气

  220V AC,50/60Hz 接地三脚插头,压缩空气0.4MMa

输入功耗

  < 3500 W

冷却方式

标配水冷机

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