DSC2000 磁控溅射镀膜机
适用于4-6英寸金属薄膜电极的制备
1自动旋转升降样品台:更均匀
2 自动Recipe控制:可远程操作
3 在线等离子体清洗:提高粘附性
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产品介绍
Product Introduction
采用一线品牌无油干泵和分子泵组产生一个洁净的10-3Pa的真空压强,通常抽真空时间小于30分钟。

采用高品质恒功率磁控溅射电源,确保恒定镀膜沉积速率。并配备自动旋转升降样品台,可加偏压和等离子体源用于基片的清 洗、活化。特别适用于4-6英寸金属薄膜电极的制备,可实现好的薄膜厚度、性能均匀性以及优秀的薄膜附着力。

操作便捷,触摸屏PC菜单可编辑工艺软件实现自动控制。 即插即用。无需额外冷却水,无需380V强电,无需压缩空气。 设备紧凑、静音,占地面积小。
基本参数
Product Specification

技术规格

参数

主要用途

  金属薄膜电极

真空泵组

  标配直流电机静音油泵+分子泵组/ 可选配干泵

泵组抽速

  >8 m3/h 机械泵+250 L/S 分子泵

极限真空

  <3.0E-4 Pa

工作气压

  典型值:0.3-1Pa

抽空时间

  <15 Min (<3.0E-3 Pa,洁净腔体)

真空测量

  测量范围大气压到10E-5 Pa,进口品牌复合真空计

气体控制

  两路 MFC气体质量流量控制器(50或100 SCCM Ar/N2)

腔室尺寸

  ~Ø 300 *180 mm

磁控靶源

  靶材尺寸 Ø 50.8*0.1-5 mm /3只(  选配靶材尺寸 Ø 76.2 *0.1-5 mm /2只)

  可实现单靶溅射/双靶共溅射/交替溅射

  带独立挡板,可溅射贵金属Au/Pt等,

  或金属Al、Cr、Ag、Ti等金属(通Ar气)

溅射电源

  恒功率磁控DC溅射电源 Max. 300W (可选国产或进口品牌)

  偏压DC溅射电源 0-400V电源(选配)

样品台

  6英寸样品台。系统采用多轴伺服电机控制系统+磁流体密封+波纹管模组,可以实现样品台自动上下升降(可调范围不低于40mm),以及样品台的旋转(速度 0-60 RPM可调)

等离子清洗

  可选配RF射频等离子清洗源(50W)

工控模式

  提供客户端工艺菜单编辑软件。可以实现工艺菜单灵活编辑(可以在工 艺编辑软件进行模块化的工艺菜单编辑)+工艺菜单自动控制执行模式(载入工艺菜单,支持实现无人值守或远程网络控制镀膜)

操作方式

  触摸屏控制/电脑远程网络控制

重量尺寸

  ~400 Kg / 600 mm宽*1400 mm深*1000 mm高

输入电源

  220V AC,50/60Hz 接地三脚插头

输入功耗

  < 3000 W

冷却方式

  标配水冷机

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